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超声扫描显微镜与相控阵超声C扫描的区别

发布时间:2025-05-15人气:11

超声扫描显微镜(Scanning Acoustic Microscopy, SAM)和相控阵超声C扫描(Phased Array Ultrasonic Testing, PAUT C-Scan)都是基于超声波的无损检测技术,但它们在原理、应用场景和成像方式上有显著区别。以下是两者的详细对比:


1. 基本原理

技术超声扫描显微镜 (SAM)相控阵超声C扫描 (PAUT C-Scan)
工作原理高频超声波(通常10MHz~200MHz)聚焦扫描样品表面/内部,通过反射回波成像。多晶片阵列探头通过电子延迟控制波束偏转和聚焦,动态扫描样品内部。
成像方式逐点扫描,高分辨率二维(B/C扫描)或三维成像。多角度电子扫描,生成二维C扫描或三维体积成像。
核心特点超高分辨率(可达微米级),适合微观缺陷分析。快速覆盖大区域,灵活调整检测角度和深度。

2. 技术参数对比

参数SAMPAUT C-Scan
频率范围高频(10MHz~200MHz)中低频(1MHz~20MHz)
分辨率横向分辨率可达1μm(取决于频率)横向分辨率通常0.1~2mm
穿透深度较浅(毫米级,高频衰减快)较深(厘米级,适合厚壁工件)
扫描速度慢(逐点精密扫描)快(电子扫描+多波束并行)
典型探头单晶聚焦探头多晶片阵列探头(16~128阵元)

3. 应用场景

技术典型应用场景局限性
SAM- 电子封装(芯片分层、焊点缺陷)
- 材料微观结构分析(孔隙、裂纹)
- 生物组织成像
不适用于大尺寸或高衰减材料(如厚金属)。
PAUT C-Scan- 航空航天复合材料检测
- 管道焊缝检测
- 核电部件体积缺陷筛查
对表面粗糙度敏感,近表面盲区较大。

4. 成像效果

  • SAM图像:显示电子芯片中微米级的分层缺陷,分辨率极高

  • PAUT C-Scan图像:显示复合材料中的分层和夹杂,覆盖面积大但分辨率较低


5. 优缺点对比

技术优点缺点
SAM- 超高分辨率
- 可三维重构缺陷
- 非破坏性
- 速度慢
- 成本高
- 穿透能力有限
PAUT C-Scan- 检测速度快
- 可灵活调整检测角度
- 适合复杂几何形状
- 分辨率较低
- 需专业操作人员
- 设备昂贵

6. 选择建议

  • 选SAM:当需要检测微米级缺陷(如半导体封装、精密陶瓷)或进行材料微观结构分析时。

  • 选PAUT C-Scan:当检测大尺寸工件(如飞机机翼、管道)或需要快速覆盖多角度缺陷时。


7. 技术发展趋势

  • SAM:向更高频率(>1GHz)发展,提升亚微米级分辨率;结合AI实现自动缺陷分类。

  • PAUT C-Scan:发展全矩阵捕获(FMC)和实时3D成像技术;便携式设备普及。


总结

  • SAM是“微观检测利器”,适合实验室和高精度工业场景。

  • PAUT C-Scan是“宏观高效工具”,适合工程现场快速检测。
    两者互补,实际应用中可根据缺陷尺度、材料属性和检测效率需求选择。



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